制造半導(dǎo)體器件或集成電路用化學(xué)氣相沉積裝置(化學(xué)氣相沉積裝置(CVD))

海關(guān)編碼	8486202100
商品描述	制造半導(dǎo)體器件或集成電路用化學(xué)氣相沉積裝置(化學(xué)氣相沉積裝置(CVD))
商品描述英文	Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
申報(bào)要素	0:品牌類型;1:出口享惠情況;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型號(hào);6:GTIN;7:CAS;
申報(bào)要素舉例	1.金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積設(shè)備；2.用于制造外延片；3.由壓力控制，溫度控制，反應(yīng)室等子系統(tǒng)通過計(jì)算機(jī)軟件連接組成，可按照設(shè)計(jì)需求獨(dú)立設(shè)定氣流，壓力，溫度等工藝參數(shù)值，制備滿足設(shè)計(jì)需求的外延片；4.無品牌；5.無型號(hào)
第一法定單位	臺(tái)
第二法定單位	無
最惠國(guó)進(jìn)口稅率	0%
普通進(jìn)口稅率	30%
暫定進(jìn)口稅率	-
消費(fèi)稅率	-
出口關(guān)稅率	0%
出口退稅率	16%
增值稅率	16%
海關(guān)監(jiān)管條件	無
檢驗(yàn)檢疫類別	無